Canon thách thức sự thống trị của ASML trong sản xuất chip bằng hệ thống nanoimprint lithography mới

Nhanh tay đăng ký 4g vina để có thể nhận ngay ưu đãi data cực khủng để tha hồ xem phim trực tuyến, cập nhật tin tức mới trong ngày mà không sợ giật lag hay bị giới hạn dung lượng nhé!

Canon gần đây đã giới thiệu FPA-1200NZ2C, một thiết bị “sản xuất chất bán dẫn in nano” được thiết kế đặc biệt để sản xuất vi mạch và các thành phần dựa trên chất bán dẫn khác bằng cách sử dụng các nút sản xuất mới nhất hiện có. Giải pháp sản xuất chip của Canon dường như mang lại khả năng tương tự cho các đối thủ cạnh tranh nhưng lại tiêu thụ điện năng thấp hơn đáng kể nhờ sử dụng công nghệ in nano.

Không giống như các hệ thống quang khắc truyền thống, quang khắc nano (NIL) không dựa vào cơ chế quang học để chuyển mẫu mạch lên tấm wafer phủ chất cản. Máy NIL của Canon đạt được cùng kết quả bằng cách ép một mặt nạ in mạch lên chất cản của wafer, về cơ bản hoạt động giống như một con dấu, theo mô tả của công ty.

Muốn lướt Facebook thoải mái, xem Youtube thả ga mà không cần Wifi, hãy đăng ký gói 4g vina liền tay. Nhận ngay lượng data cực khủng, sử dụng nghe gọi và lướt web thả ga mà không lo giới hạn dung lượng luôn nhé!

FPA-1200NZ2C có thể xử lý công việc kẻ mạch với độ rộng tối thiểu là 14 nm, khả năng mà Canon cho biết tương đương với nút sản xuất 5nm cần thiết để sản xuất các bán dẫn logic tiên tiến nhất ngày nay. Canon dự đoán rằng, với sự cải thiện liên tục trong công nghệ mặt nạ, kỹ thuật NIL sẵn sàng đạt độ rộng tối thiểu 10 nm (tương đương với nút 2nm).

Thiết bị FPA-1200NZ2C mới của Canon cũng được trang bị công nghệ kiểm soát môi trường đổi mới nhằm giảm thiểu ô nhiễm hạt mịn. Vì nó không yêu cầu nguồn sáng “đặc biệt” như máy quang khắc cực tím (EUV), giải pháp NIL của Canon tiết kiệm năng lượng đáng kể và có thể giảm mạnh tiêu thụ điện năng, do đó góp phần giảm CO2. 

FPA-1200NZ2C có khả năng sản xuất các mạch bán dẫn phức tạp với số lớp không có lỗi ngày càng tăng, nhờ công nghệ kiểm soát hạt mịn nói trên. Canon cho biết thiết bị này có thể được sử dụng cho nhiều ứng dụng, bao gồm ống kính kim cho các thiết bị thực tế mở rộng (XR) có cấu trúc vi mạch trong vài chục nanomet, cũng như mạch logic trong CPU và các thiết bị bán dẫn khác. 

Quang khắc nano là kỹ thuật đã tồn tại hơn 20 năm, như được lưu ý bởi Pranay Kotasthane, chủ tịch Takshashila Institution, trong một cuộc phỏng vấn với CNBC. Tuy nhiên, công nghệ này không thu hút được sự chú ý đáng kể, chủ yếu vì máy cực tím (EUV) do công ty Hà Lan ASML sản xuất cho kết quả tốt hơn cho các sản phẩm chip rất tinh vi. Canon, đã phát triển công nghệ NIL của mình kể từ năm 2004, hiện đang đặt cược vào ý tưởng rằng giải pháp “rẻ hơn” này là “đủ tốt” để sản xuất chip tiên tiến một cách độc lập.

Link bài viết Canon thách thức sự thống trị của ASML trong sản xuất chip bằng hệ thống nanoimprint lithography mới: https://vnvinaphone.vn/canon-thach-thuc-su-thong-tri-cua-asml.html